上海六晶科技股份有限公司请求屏蔽复合膜相关专利可完成对 X 射线或γ射线的选择性透过与屏蔽
时间: 2025-02-19 
作者:
金融界 2025 年 1 月 18 日音讯，国家知识产权局信息数据显现，上海六晶科技股份有限公司请求一项名为“屏蔽复合膜及制备办法和使用、一维滤线栅和 X 射线设备”的专利，公开号 CN 119314717 A，请求日期为 2021 年 12 月。
专利摘要显现，本发明供给了一种屏蔽复合膜及制备办法和使用、一维滤线栅和 X 射线设备，触及射线屏蔽技术范畴。该屏蔽复合膜包含屏蔽层和基体层，所述屏蔽层设置于所述基体层的一侧表面上；其间，所述屏蔽层选用屏蔽资料组合物制成，所述屏蔽层的密度为 3‑13g/cm3；所述基体层的厚度为 0.05‑10mm；所述屏蔽层的厚度为 0.01‑3mm。本发明供给的屏蔽复合膜能轻松完成对 X 射线或γ 射线的选择性透过与屏蔽，具有十分杰出的使用远景。一起该屏蔽复合膜的制备办法简略易操作，工艺安稳。鉴于上述屏蔽复合膜所具有的优势，使其在屏蔽 X 射线或γ 射线范畴具有十分杰出的使用远景。
天眼查资料显现，上海六晶科技股份有限公司，成立于2006年，坐落上海市，是一家以从事科技推广和使用服务业为主的企业。企业注册本钱1137.0589万人民币，实缴本钱1137.0589万人民币。经过天眼查大数据分析，上海六晶科技股份有限公司共对外出资了6家企业，参加招投标项目1次，知识产权方面有商标信息3条，专利信息82条，此外企业还具有行政许可23个。
